intel Fab 42 10nm

بعد مرور 9 سنوات على بداية العمل على مصنع Fab 42..هاهي Intel تعلن بشكل رسمي دخول هذا المصنع الضخم مرحلة العمليات الإنتاجية لتعزيز كمية الإنتاج للمعالجات المركزية بدقة 10nm. هذا التصريح الرسمي يجعلنا نتفائل بشكل كبير حول كمية الإنتاج الشهرية لهذه الدقة من مسابك Intel.

فكما نعلم كانت هناك مشاكل كثيرة متعلقة بهذه الدقة وعدم قدرة Intel على الوصول لمرحلة الإنتاج بسبب العوائق التقنية في المسابك المسؤولة عن ذلك. حاولت Intel كثيراً لتتجاوز هذه العوائق ولكن للأسف تأخرت كثيراً لتدخل في هذا العام أول إنتاج لهذه الدقة بعد أن كانت خارطة العمل الخاصة بها تتحدث عن إنتاج هذه الدقة بين عام 2016 وعام 2017!

قبل هذا التصريح الرسمي من Intel, كانت تعتمد الشركة في إنتاجها الحالي على مصنعين مخصصين لعمليات إنتاج الرقاقات بدقة 10nm وهما مصنع D1X الذي يقع في ولاية أوريغون/الولايات المتحدة الأمريكية, ومصنع Fab 28 الذي يقع في مدينة كريات جات/إسرائيل.

المختلف بين هذه المصانع هو أن D1X كان مهيئ بالأساس لإنتاج دقة 14nm ثم بعد ذلك تم توجيهه لإنتاج دقة 10nm بينما مصنع Fab 28 فلقد كان ينتج رقاقات بدقة 22nm بعد ذلك تم تهيئة المصنع ليكون جاهز لعمليات إنتاج دقة 10nm. اما المصنع الثالث Fab 42 في ولاية أريزونا/الولايات المتحدة الامريكية الذي دخل مرحلة العمليات الإنتاجية لهذه الدقة, فله قصة طويلة احتاج 9 سنوات من الزمن حتى يبدأ أولى مراحله بعد تغير الخطط الخاصة به عدة مرات.

دخل هذا المصنع أولى مراحل تصنيعه في عام 2011 حيث كان يعتبر المصنع الأضخم للشركة والاكثر تطوراً وفقاً لخارطة العمل القديمة "التي بالمناسبة تغيرت أكثر من مرة بسبب بعض الفشل والتأخير من هنا ومن هناك" في تلك الفترة كانت خارطة العمل تشير إلى عدم جاهزية الانتقال نحو تكنولوجيا تصنيع الأشعة فوق البنفسجية (EUV) لكنها بنفس الوقت كانت تتحدث عن إمكانية الإنتقال لتصنيع قوالب wafer بحجم 450مم لذلك تم التركيز في المرحلة الأولى على هذه الخطوات.

لكن حالما انتهى المصنع من تدشينه في عام 2013 واصبح جاهز لاستقبال المعدات التقنية الخاصة بعمليات الإنتاج, قررت Intel عدم جعل المصنع مخصص لدقة تصنيع 14nm وذلك في عام 2014 بعدما رأت بأن عمليات الإنتاج على هذه الدقة لن تكون كبيرة ولن تحتاج إلى مصنع ضخم مثل Fab 42  نظراً لوجود أكثر من مصنع متكفل بعمليات إنتاج دقة 14nm.

خارطة العمل انتقلت بعد ذلك نحو مرحلة أخرى حيث تم الإعلان بشكل رسمي في عام 2017 عن إنفاق Intel لمبلغ مالي ضخم يقارب 7 مليار دولار لتجهيز هذا المصنع بكامل ما يحتاج إليه للدخول في مراحل إنتاج دقة تصنيع 7nm! نعم Intel كانت تحلم كثيراً وتعتقد أن الأمر سهل الوصول إليه بعد أن دخلت في عام 2017 وهو العام الذي كان مقرر أن نرى فيه أول معالجات مصنوعة بدقة 10nm...لكن كلنا نعرف ماذا حدث وكيف دخلت في داومة من المشاكل مع 10nm دون إمكانية لإطلاق معالجات بتلك الدقة لسنوات.

بعد دخولها للمراحل الاولى لعمليات الإنتاج لدقة 10nm من خلال المصنعين المذكورين سابقاً, قررت Intel أنها بحاجة لمصنع أضخم يتكفل بعمليات الإنتاج ليزيد من السعة الإنتاجية بشكل أفضل نظراً لاعتماد عدد أكبر من المنتجات عليها. ففي الوقت الحالي إنتل تصنع وتجهز لتصنيع معالجات متعددة بتلك الدقة مثل: Ice Lake  و Ice Lake-SP و Elkhart Lake و Snow Ridge بجانب بعض المعالجات الرسومية من معمارية Xe ومؤخراً معالجات Tiger Lake.

أخيراً أكدت إنتل انها استثمرت مبلغ مالي هائل على منشأة التصنيع الضخمة التي تقع في ولاية أريزونا حيث تضم تلك المنشأة 4 مصانع ضخمة وهي Fab 12/Fab 22/Fab 32 المسؤولة عن إنتاج دقة 20nm سابقاً والأن مسؤولة عن دقة 14nm بينما المصنع الرابع والجديد Fab 42 مسؤول عن دقة 10nm....المبلغ الإجمالي الذي انفقته إنتل على هذه المنشأة تجاوز حتى الأن مبلغ 23 مليار دولار.

هل هذه الخطوة ستنعكس على الحالة الإنتاجية لدقة 10nm؟ نعم بكل تأكيد ستنعكس بشكل إيجابي خاصة بعد أن سمعنا استياء بعض الشركات من النقص الحاصل في إنتاج معالجات Tiger Lake المخصصة للأجهزة المحمولة.